作为表面涂覆工艺,其主要目的为保证FPC与元器件之间有可靠的焊接性,因此存在着多种工艺,现FPC普遍使用的工艺有电镍金、电锡、沉镍金、沉锡、沉银、OSP等
沉镍金ENIG(Electroless Nickel Immersion Gold)
通过化学沉积方式在铜表面沉上一层镍和金层,先在电路板裸铜表面反应沉积形成一层含磷7-9%的镍镀层,厚度约3-6um,再于镍表面置换一层厚度约0.03-0.15um的纯金。
沉锡(Immersion Tin)
通过化学沉积方式在铜表面沉上一层纯锡层,在电路板裸铜表面经化学置换反应形成一层洁白而致密的锡镀层,厚度约0.7-1.2um。
电镍金 (Ni/Au Plating)
通过外加电流将铜表面镀上一层镍和金,在电路板裸铜表面上电镀铜/镍/金镀层,镍层约4-8um,金层约0.025-0.1um。
沉银 (Immersion silver)
通过化学沉积方式在铜表面沉上一层镍和金层,在电路板裸铜表面经化学置换反应形成一层洁白而致密的银镀层,厚度约0.1-0.5um。
电锡(Sn Plating)
通过外加电流将铜表面镀上一层锡,在电路板裸铜表面上电镀锡,锡层约4-12um
OSP
在铜面上沉积上一层有机覆盖膜,在电路板裸铜表面沉积形成一层平整而致密的有机覆盖层,厚度约0.2-0.6um,既可保护铜面,又可保证焊接性能。
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